Hafnio dalelės

Hafnio dalelės yra svarbios medžiagos gaminant valdymo strypus branduoliniuose reaktoriuose. Dėl didelio šiluminio neutronų gaudymo skerspjūvio hafnis gali efektyviai sugerti neutronus ir taip kontroliuoti branduolinių reakcijų greitį ir intensyvumą. Dėl to hafnio dalelės atlieka esminį vaidmenį saugiai veikiant branduoliniams reaktoriams. Aviacijos ir kosmoso srityje hafnio dalelės dažnai naudojamos kaip lydinių priedai. Pridedant hafnio elemento, lydinio atsparumas aukštai temperatūrai, atsparumas korozijai ir stiprumas gali būti žymiai pagerintas. Pavyzdžiui, lydiniai, kurių sudėtyje yra hafnio, gali būti naudojami reaktyvinių variklių ir raketų konstrukcinėms medžiagoms, tokioms kaip turbinų mentės, gaminti.

 

Hafnio dalelės taip pat gali būti naudojamos kaip garuojančios dangos medžiagos. Kaitinant hafnio daleles vakuume, kad jos išgaruotų ir nusėstų ant pagrindo paviršiaus, gali susidaryti vienoda ir tanki hafnio plėvelė. Ši dengimo technologija svarbi elektroninių prietaisų gamyboje. Hafnio dalelės taip pat turi svarbių pritaikymų elektronikos pramonėje. Dėl lengvo elektronų emisijos hafnio laidai dažnai naudojami rentgeno vamzdžių katodams gaminti. Šio tipo rentgeno vamzdeliai plačiai naudojami medicinos, mokslinių tyrimų ir kitose srityse.

Yra didelių skirtumų tarp hafnio ir tantalo dalelių fizinių savybių, cheminių savybių ir taikymo sričių. Hafnis turi santykinai silpną atsparumą rūgštims, tačiau jis gali atsispirti stiprių rūgščių, tokių kaip koncentruota druskos rūgštis, koncentruota azoto rūgštis ir šalta vandens rūgštis, korozijai. Tantalas yra žinomas dėl savo itin didelio inertiškumo rūgščių atžvilgiu ir gebėjimo atlaikyti koroziją nuo įvairių stiprių rūgščių. Tačiau tantalas turi silpną atsparumą šarmams, o išsilydęs stiprus šarmas gali smarkiai ėsdinti tantalą šiek tiek kaitindamas. Hafnis yra atsparumo šarmams karalius, galintis atsispirti išlydyto stiprio šarmo korozijai. Dėl to, kad hafnis ir tantalas yra reti metalai, o gavybos ir apdorojimo procesai yra gana sudėtingi, jų sąnaudos yra gana didelės.

Pagrindinis skirtumas tarp hafnio dalelių ir tantalo dalelių, atsižvelgiant į jų panaudojimą, yra jų unikalios fizinės ir cheminės savybės, kurios lemia atitinkamas jų taikymo sritis. Hafnio dalelės yra labiau orientuotos į taikymą tokiose srityse kaip atominė energija, lydiniai ir elektroninės medžiagos, o tantalo dalelės plačiau naudojamos tokiose srityse kaip chemijos inžinerija, elektronika, aviacija ir kietųjų lydinių gamyba.

Hafnio dalelių paruošimas apima kelis metodus, o šių metodų pasirinkimas priklauso nuo reikalaujamo hafnio dalelių grynumo, morfologijos ir taikymo scenarijų. Įprastas metodas yra magnio redukcija, kai metalo magnis naudojamas redukuoti hafnio tetrachloridą (HfCl4) ir gauti hafnio metalą. Tai vienas iš dažniausiai naudojamų pramoninio paruošimo būdų, kuriuo galima gauti didelio grynumo hafnio metalą. Taip pat yra elektrolizės metodas, naudojant HfCl4 ir K2HfF6 kaip žaliavas, kurio procesas panašus į cirkonio elektrolizę ir tinkamas didelio masto gamybai. Jonų mainų metodas yra hafnio oksido ekstrahavimas iš mineralų arba atliekų, kurių sudėtyje yra hafnio, naudojant jonų mainų dervą ir toliau redukuojamas iki metalinio hafnio. Šis metodas tinka hafniui išgauti iš sudėtingų mineralų ir gali efektyviai jį atskirti bei išvalyti.

Paprastai kalbant, didelio grynumo hafnio dalelės pasižymi geresnėmis savybėmis ir platesniu pritaikymo spektru. Bendrosios hafnio dalelių specifikacijos apima skirtingo skersmens daleles, blokus arba miltelius. Konkrečios specifikacijos ir grynumo reikalavimai gali būti pritaikyti pagal klientų poreikius.

Populiarus Žymos: hafnio dalelės, Kinijos hafnio dalelių gamintojai, tiekėjai, gamykla